{"id":10854,"date":"2023-11-20T11:59:38","date_gmt":"2023-11-20T14:59:38","guid":{"rendered":"https:\/\/blog.wika.com\/pt\/\/?p=10854"},"modified":"2024-06-25T10:39:51","modified_gmt":"2024-06-25T13:39:51","slug":"gpu-s-2000-a-soluo-ideal-da-wika-para-o-manuseio-eficiente-e-seguro-de-gs-sf6","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/blog.wika.com\/pt\/geral\/gpu-s-2000-a-soluo-ideal-da-wika-para-o-manuseio-eficiente-e-seguro-de-gs-sf6\/","title":{"rendered":"GPU-S-2000: A Solu\u00e7\u00e3o Ideal da WIKA para o Manuseio Eficiente e Seguro de G\u00e1s SF6"},"content":{"rendered":"

O hexafluoreto de enxofre \u00e9 amplamente utilizado como g\u00e1s isolante e supressor de arco em equipamentos el\u00e9tricos. Entretanto, para manter sua efic\u00e1cia, o SF<\/strong>6<\/sub><\/strong> precisa de limpeza regular para se livrar de impurezas prejudiciais. O manuseio tamb\u00e9m precisa ser feito com cuidado, pois o SF<\/strong>6<\/sub><\/strong> \u00e9 um g\u00e1s de efeito estufa. A solu\u00e7\u00e3o multifuncional em um GPU-S-2000 da WIKA permite o manuseio seguro e eficiente do g\u00e1s SF<\/a><\/strong>6<\/sub><\/strong> – incluindo enchimento, limpeza e substitui\u00e7\u00e3o – em pain\u00e9is el\u00e9tricos e outros equipamentos isolados com SF<\/strong>6<\/sub><\/strong>.<\/strong><\/p>\n

O g\u00e1s hexafluoreto de enxofre puro (SF6<\/sub>) tem excelentes propriedades diel\u00e9tricas e de transfer\u00eancia de calor. \u00c9 por isso que ele \u00e9 o isolante preferido para pain\u00e9is de transmiss\u00e3o e distribui\u00e7\u00e3o (T&D), aceleradores de part\u00edculas e outras aplica\u00e7\u00f5es industriais.<\/p>\n

Para manter sua pot\u00eancia como g\u00e1s isolante, no entanto, os usu\u00e1rios precisam garantir que ele permane\u00e7a puro. Mesmo uma pequena quantidade de umidade no g\u00e1s reduz sua efic\u00e1cia. Normalmente, durante um arco el\u00e9trico, os seis \u00e1tomos de fl\u00faor se separam do \u00e1tomo de enxofre para pegar el\u00e9trons livres. Quando a \u00e1gua entra em um painel de distribui\u00e7\u00e3o isolado a g\u00e1s, os \u00e1tomos de enxofre e fl\u00faor divididos agarram os \u00e1tomos de oxig\u00eanio e\/ou hidrog\u00eanio, o que resulta em uma s\u00e9rie de subprodutos t\u00f3xicos e corrosivos.<\/p>\n

Os vazamentos deixam entrar a umidade, mas tamb\u00e9m permitem que o SF6 \u2013 um poderoso g\u00e1s de efeito estufa \u2013 escape para a atmosfera. E em concentra\u00e7\u00f5es suficientemente altas, o SF6<\/sub> pode causar asfixia em espa\u00e7os fechados porque esse g\u00e1s mais pesado desloca o ar (oxig\u00eanio).<\/p>\n\n

Unidade de manuseio de g\u00e1s GPU-S-2000 com tanque de hexafluoreto de enxofre<\/p><\/div>\n \n

Por esses motivos, os equipamentos isolados com SF6<\/sub> devem ser monitorados de perto para evitar vazamentos e manter a umidade dentro de n\u00edveis seguros. O enchimento, a recupera\u00e7\u00e3o, a limpeza, a evacua\u00e7\u00e3o, a ventila\u00e7\u00e3o e a substitui\u00e7\u00e3o do g\u00e1s SF6<\/sub> s\u00e3o processos essenciais para a sa\u00fade e a seguran\u00e7a das centrais el\u00e9tricas, dos t\u00e9cnicos e do planeta.<\/p>\n

Solu\u00e7\u00e3o Multifuncional da WIKA<\/strong><\/h2>\n

A resposta da WIKA aos desafios do manuseio de g\u00e1s SF6 \u00e9 o GPU-S-2000<\/a>. Port\u00e1til, econ\u00f4mica e de baixa manuten\u00e7\u00e3o, essa unidade cobre todo o processo, desde o enchimento at\u00e9 o armazenamento. Possui compressores isentos de \u00f3leo e compressores a v\u00e1cuo, cilindros ou tanques de g\u00e1s SF6<\/sub> consolidados e ampla capacidade de armazenamento. A HMI integrada com tela sens\u00edvel ao toque de 10″ \u00e9 intuitiva e f\u00e1cil de usar.<\/p>\n

Poderosas capacidades de limpeza<\/strong><\/p>\n

O GPU-S-2000 mede a umidade durante o manuseio de g\u00e1s SF6 por meio do GDHT-20<\/a>, um sensor multipar\u00e2metro, dispon\u00edvel tamb\u00e9m como produto aut\u00f4nomo, que fornece informa\u00e7\u00f5es de press\u00e3o, temperatura, densidade e umidade com uma sa\u00edda digital que permite o f\u00e1cil processamento de dados on-line. O sistema alerta o operador quando o n\u00edvel de umidade se aproxima de um valor predefinido pelo cliente. O operador pode ent\u00e3o substituir o g\u00e1s \u00famido ou iniciar um processo de recircula\u00e7\u00e3o para sec\u00e1-lo.<\/p>\n

O GPU-S-2000, com os filtros 3 em 1 GPF-10<\/a> da WIKA, remove 1) a umidade do g\u00e1s SF6<\/sub>, 2) part\u00edculas de at\u00e9 1 \u03bcm e 3) subprodutos do SF6<\/sub>, incluindo fluoreto de hidrog\u00eanio (HF), di\u00f3xido de enxofre (SO2<\/sub>), fluoreto de tionila (SOF2<\/sub>), fluoreto de sulfurila (SO2<\/sub>F2<\/sub>) e tetrafluoreto de enxofre (SF\u2084).<\/p>\n

O GPU-S-2000 foi projetado para suportar at\u00e9 145 psi absolutos (10 bar abs.) na conex\u00e3o do processo e at\u00e9 72,5 psi absolutos (50 bar abs.) nas duas conex\u00f5es com os cilindros de g\u00e1s. As mangueiras s\u00e3o feitas de a\u00e7o inoxid\u00e1vel \u2013 o material recomendado para evitar a permea\u00e7\u00e3o de umidade \u2013 mas tamb\u00e9m est\u00e3o dispon\u00edveis em borracha, mediante solicita\u00e7\u00e3o.\u00a0<\/strong><\/p>\n

Desempenho inigual\u00e1vel<\/strong><\/p>\n

O GPU-S-2000 \u00e9 r\u00e1pido, gra\u00e7as \u00e0 sua capacidade de ser configurado com v\u00e1rios tipos diferentes de compressores e bombas. Essa escolha personalizada permite a m\u00e1xima efici\u00eancia para um determinado volume de SF6<\/sub>. Como exemplo, essas curvas ilustram o desempenho de uma unidade de manuseio padr\u00e3o com um tanque de 300 litros.<\/p>\n

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Enchimento de SF6: de 1 mbar abs. a 6 bar abs. Tempo total: 7 minutos e 46 segundos<\/p><\/div>\n \n

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Recupera\u00e7\u00e3o de SF6: de 6 bar abs. a 1 mbar abs. Tempo total: 26 minutos e 43 segundos<\/p><\/div>\n \n

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Evacua\u00e7\u00e3o de ar: de 1 bar abs. a 1 mbar abs. Tempo total: 6 minutos e 50 segundos<\/p><\/div>\n <\/p>\n

Manuseio de g\u00e1s SF<\/strong>6<\/sub><\/strong> de baixa manuten\u00e7\u00e3o<\/strong><\/p>\n

O GPU-S-2000 \u00e9 robusto e requer pouca manuten\u00e7\u00e3o, podendo funcionar por milhares de horas sem precisar de uma revis\u00e3o. O cronograma de manuten\u00e7\u00e3o, entretanto, depende muito das condi\u00e7\u00f5es de opera\u00e7\u00e3o. Para obter um desempenho ideal, \u00e9 importante ajustar os intervalos de manuten\u00e7\u00e3o para cada aplica\u00e7\u00e3o espec\u00edfica.\u00a0As tabelas abaixo ilustram alguns intervalos de manuten\u00e7\u00e3o padr\u00e3o.<\/p>\n

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M\u00e1xima seguran\u00e7a ao trabalhar com SF<\/strong>6<\/sub><\/strong><\/p>\n

Embora o g\u00e1s em si n\u00e3o seja t\u00f3xico e n\u00e3o seja inflam\u00e1vel, os vazamentos de SF6<\/sub> podem ter graves consequ\u00eancias para a sa\u00fade humana e do planeta. \u00c9 por isso que o GPU-S-2000 tem controles de seguran\u00e7a integrados baseados em componentes SIL 2\/PLd (N\u00edvel de Integridade de Seguran\u00e7a 2). Com essa configura\u00e7\u00e3o, h\u00e1 duas camadas de sistemas de controle \u00e0 prova de falhas. O sistema de controle de seguran\u00e7a est\u00e1 no topo da estrutura de comando e \u00e9 independente do controle de processo. Em caso de vazamento, o controle de seguran\u00e7a interrompe a m\u00e1quina quando, por exemplo, a concentra\u00e7\u00e3o de SF6<\/sub> atinge 1000ppm – a concentra\u00e7\u00e3o m\u00e1xima permitida nos locais de trabalho.<\/p>\n

Gra\u00e7as ao controle de seguran\u00e7a SIL 2\/PLd, os riscos de uso incorreto, emiss\u00f5es para o meio ambiente e enchimento excessivo do tanque de armazenamento podem ser praticamente descartados.<\/p>\n

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Uma solu\u00e7\u00e3o SF<\/strong>6<\/sub><\/strong> econ\u00f4mica<\/strong><\/p>\n

O GPU-S-2000 \u00e9 uma unidade multifuncional econ\u00f4mica para manuseio de g\u00e1s SF6<\/sub>. V\u00e1rios fatores influenciar\u00e3o o retorno sobre o investimento dos usu\u00e1rios, incluindo<\/p>\n